По заказу Минпромторга России АО «НИИМЭ» совместно с АО «НИИТМ» разработали первые отечественные кластерные установки плазмохимического травления и осаждения, предназначенные для производства электронных компонентов с проектными нормами до 65 нм.Они способны обрабатывать кремниевые пластины диаметром до 300 мм, выполняя высокоточные операции, такие как: нанесение тонких изолирующих пленок (оксида и нитрида кремния);
плазмохимическое травление для создания наноструктур.Ключевая особенность — работа...
